在掃描電鏡（SEM）成像中，樣品表面的充電效應可能導致圖像的失真和噪音。以下是一些減少或校正樣品表面充電效應的常見方法：

導電涂層： 在樣品表面涂覆導電性良好的薄層是常見的減少充電效應的方法。常見的導電涂層材料包括金屬（如金或鉑）或導電碳。這種涂層有助于在樣品表面形成導電路徑，減少表面電荷的積累。

金屬導電膠： 使用金屬導電膠連接樣品和支撐基底，以確保電荷可以流動。這種方法適用于一些不適合涂覆導電薄層的樣品。

樣品處理： 有時，通過在真空中或惰性氣氛中處理樣品，可以減少樣品表面的氧化和電荷積累。這種方法要求使用者在實驗室環境中謹慎操作，以避免樣品受到污染。

低電子能量： 使用低電子能量進行成像可以減少電子束與樣品之間的相互作用，從而減少表面充電效應的影響。然而，這可能會降低圖像的分辨率。

場發射電鏡： 堆積電荷問題在場發射電鏡中較少，因為它使用的是場發射電子而不是落在樣品表面的電子束。

電子束抑制器： 一些先進的掃描電鏡設備配備了電子束抑制器，可以通過向樣品表面施加反電場來抑制電子束的影響，減輕充電效應。

ZEM18臺式掃描電鏡

以上就是澤攸科技小編分享的在掃描電鏡成像中怎樣減少或校正樣品表面的充電效應。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢