當掃描電鏡（SEM）圖像變亮或出現過曝現象時，說明圖像中部分區域亮度過高，導致細節丟失、圖像偏白或泛光。造成這種現象的原因多種多樣，以下是常見原因及對應的處理方法：

常見原因及處理方法

1. 電子束電流過高

原因：電子束電流設置太大，信號強度過強，圖像亮度異常。

處理：適當調低 電子束電流（Beam Current） 或 **亮度（Brightness）設置。

2. 探測器增益設置過高

原因：二次電子探測器或背散射探測器的增益（Gain）過高。

處理：降低探測器增益或對比度設置，避免圖像信號被放大過多。

3. 工作距離不當

原因：工作距離（WD）過近導致信號強度集中，成像局部過亮。

處理：適當增加工作距離，使電子束在樣品上的掃描范圍更合理。

4. 樣品帶電

原因：非導電樣品未噴金或接地不好，電荷積聚導致電子束散射不均勻，局部放電發亮。

處理：

預先噴鍍一層導電材料（如金、碳）；

使用低真空模式或環境 SEM；

在樣品背面用導電膠接地。

5. 曝光時間過長（Slow scan）

原因：長時間掃描可能造成部分像素過曝。

處理：選擇適中或快速掃描模式，避免局部區域曝光過度。

6. 樣品局部高反射/高原子序

原因：金屬顆?；蚋咴有蛟貐^域反射信號強，造成圖像局部過亮。

處理：

適當降低放大倍率查看整體結構；

或使用背散射電子圖像代替觀察。